產(chǎn)品簡介

沈陽科儀高真空磁控濺射薄膜沉積系統(tǒng)--PVD500

真空室結(jié)構(gòu):方形前開門

真空室尺寸:p500x500x500mm

極限真空度:≤3.0E-5Pa

沉積源:永磁靶4套，2英寸

樣品尺寸，溫度:p4英寸，1片，最高800°C

占地面積(長x寬x高):約2米x1.7米x2米

電控描述:全自動(dòng)

工藝:片內(nèi)膜厚均勻性:≤3%

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