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    沈陽科儀高真空電子東蒸發薄膜沉積系統

    產品簡介

    沈陽科儀高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700

    真空室結構: U形前開門

    真空室尺寸:700x700x900mm

    極限真空度:≤6.6E-5Pa

    沉積源:6個40cc坩堝

    樣品尺寸,溫度:4英寸,26片,最高300℃C

    占地面積(長x寬x高):約3.2米x3.9米x2.1米

    工藝:片內膜厚均勻性:≤3%

    特色參數: 工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根據用戶基片尺

    產品型號:EB700
    更新時間:2026-01-08
    廠商性質:經銷商
    訪問量:649
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    高真空電子東蒸發薄膜沉積系統--EB700

    真空室結構: U形前開門

    真空室尺寸:700x700x900mm

    極限真空度:≤6.6E-5Pa

    沉積源:6個40cc坩堝

    樣品尺寸,溫度:4英寸,26片,最高300℃C

    占地面積(長x寬x高):約3.2米x3.9米x2.1米

    電控描述:全自動

    工藝:片內膜厚均勻性:≤3%

    特色參數: 工件架有拱形基片架和行星形基片架:可根據用戶基片尺寸設計工件架

    產品概述:
    系統主要由蒸發室、主抽過渡管路、旋轉基片架、光加熱系統、電子槍及電源、石英晶體振蕩膜厚監控儀、工作氣路、抽氣系統、控制系統、安裝機臺等部分組成,體現立方整體外觀,適用于超凈間間壁隔離安裝,操作面板一端處在相對要求較高超凈環境,其余部分(含低溫泵抽系統)處在相對要求較低超凈環境。
    設備用途:
    本系統配有一套電子槍及電源,可滿足在Al,Ni,Ag,Pt,Pd,Mo,Cr和Ti等多種金屬和介質膜基片上均勻沉積多層膜的需要。



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