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    磁控濺射薄膜沉積系統

    產品簡介

    產品概述:
    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業使用的軟件控制系統。

    產品型號:SMART
    更新時間:2026-01-19
    廠商性質:經銷商
    訪問量:61
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    產品概述:
    本沉積系統可用于制備光學薄膜、電學薄膜、磁性薄膜、硬質保護薄膜和裝飾薄膜等,工藝性能穩定、模塊化結構,采用行業使用的軟件控制系統。

    設備用途:
    用于納米級單層及多層功能膜、硬質膜、金屬膜、半導體膜、介質膜等新型薄膜材料的制備。可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研項目。

    產品參數:

    真空室結構:六邊形側開門

    真空室尺寸:φ350x370mm

    極限真空度:≤6.0E-4Pa

    沉積源:永磁靶1套,φ2英寸

    樣品尺寸,溫度:φ2英寸,1片,最高800℃

    占地面積(長x寬x高):約1米x1米x1.9米

    電控描述:手動

    工藝:片內膜厚均勻性:≤±3%


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